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据韩国媒体 BusinessKorea 报导，韩国产业通商资源部于 5 月 13 日对外宣布，全球光刻机龙头（领头）（领头）大厂阿斯麦(ASML)计划在韩国建设光刻设备再制造工厂及培训中心，新厂预计在 2025 年建设完成。

所谓再制造，指的是以旧的机器设备为毛坯，采用专门的工艺和技术，在原有制造的基础上进行一次新的制造，而且重新制造出来的产品无论是性能还是质量都不亚于原先的新品。

据媒体介绍，阿斯麦计划未来四年将在韩国投资 2400 亿韩元(约合 13.7 亿人民币)，于京畿道华城市打造一座 EUV(极端远紫外光源)光刻设备再制造厂以及一家培训中心，由京畿道政府对阿斯麦在当地的授权、扩张业务提供协助。其 EUV 光刻设备再制厂的主要用途就是为韩国当地运行的 EUV 光刻机的维护和升级提供助力。

据IT之家了解，此前韩国发布半导体强国建设战略规划，将半导体研发税额抵扣率提升至 40～50%，并且还拟斥资约 4500 亿美元建设全球最大的芯片制造基地，韩国想跻身芯片半导体大国行列的意图不言而喻，此次阿斯麦赴韩国建厂，对加快韩国半导体建设将会有很大的助力。

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